優化工藝流程 超純水設備呈現1+1>2產水效果

　　半導體、電子行業是目前要求高標準的超純水大戶，隨著集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。超出水制造技術的發展極大地推動了半導體和電子工業的技術進度。同時半導體、電子工業的迅速發展促進了超純水制造技術裝備的發展。

　　超純水(UPW)是指電阻率達到18 MΩ·cm(25℃)的水。這種水中除了H2O外，幾乎沒有什么雜質或其他離子。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。

　　采用原水進水→UF裝置→一級RO→二級RO→TOC裝置→EDI系統→氮封系統→TOC裝置→脫氣系統→靶向離子將換→終端過濾→用水點的工藝系統，獨有的靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子能夠穩定≤5ppt�？蛇B續穩定地生產高純度的超純水，無需因樹脂再生而停機。其技術優勢如下：

　　1、定制化工藝包，搭配成熟的模塊設計，達到1+1>2的結果呈現。

　　2、設計嚴格準守藥品設計規范，設備部件均可追溯。

　　3、優化工藝流程，減少風險管控點，不添加任何化學藥劑。

　　4、一鍵啟動、維護少、占地小、噪音輕。

　　萊特萊德采用反滲透膜技術+獨有的靶向離子交換系統，將水中的大部分離子、病毒及細菌完全去除后制成純凈水，能夠強有力的保證行業的用水安全。PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使該超純水設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。